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    帕森斯設計學院 Parsons the New School for Design
    • 優勢專業: 服裝設計室內設計插畫設計
    • 申請截止日期:早申:11月1日 常規:1月15日
    • 語言要求:托福: 100 雅思: 7.0; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    羅德島設計學院 Rhode Island School of Design
    • 優勢專業: 工業設計多媒體設計陶藝攝影建筑設...
    • 申請截止日期:早申:11月1日 常規:2月1日
    • 語言要求:托福: 93 雅思: 6.5; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    普瑞特藝術學院 Pratt Institute
    • 優勢專業: 室內設計插畫設計工業設計影視制作...
    • 申請截止日期:早申:11月1,常規:1月5
    • 語言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    紐約時裝學院 Fashion Institute of Technology
    • 優勢專業: 服裝設計插畫設計配飾設計
    • 申請截止日期:1月1日
    • 語言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    哈佛大學 Harvard University
    • 優勢專業: 景觀設計建筑設計工業設計
    • 申請截止日期:早申:11月1日 常規:1月1日
    • 語言要求:托福: 100 雅思: N/A; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    薩凡納藝術與設計學院 Savannah College of Art and Design
    • 優勢專業: 服裝設計平面設計插畫設計
    • 申請截止日期:rolling
    • 語言要求:托福: 85 雅思: 6.5; 申請難度: 一般
    + 院校對比
    天普大學 Temple University
    • 優勢專業: 純藝術
    • 申請截止日期:早申:11月1日 常規:2月2日
    • 語言要求:托福: 79 雅思: 本6.0 研6.5; 申請難度: 一般
    + 院校對比
    奧蒂斯藝術與設計學院 Otis College of Art and Design
    • 優勢專業: 服裝設計純藝術
    • 申請截止日期:早申:12月1日 常規:2月15日
    • 語言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請難度: 一般
    + 院校對比
    加州藝術學院 California Institute of the Arts
    • 優勢專業: 室內設計動畫設計攝影
    • 申請截止日期:EA:12.2, RD: 1.6
    • 語言要求:托福: 本80 研100 雅思: 本6.5 研7.0; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    芝加哥藝術學院 School of the Art Institute of Chicago
    • 優勢專業: 插畫設計多媒體設計攝影
    • 申請截止日期:早申:11月15日 常規:1月15日
    • 語言要求:托福: 本:82 研:80 雅思: 6.5; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    南加州大學 University of Southern California
    • 優勢專業: 動畫設計多媒體設計影視制作音樂
    • 申請截止日期:早申:12月1日 常規:1月15日
    • 語言要求:托福: 100 雅思: 7.0; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    美國加州藝術學院 California Institute of the Arts
    • 優勢專業: 工業設計室內設計攝影平面設計服裝設計
    • 申請截止日期:早申:12月1日 常規:1月5日
    • 語言要求:托福: 本80 研100 雅思: 本6.5 研7.0; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    馬里蘭藝術學院 Maryland Institute College of Art
    • 優勢專業: 交互設計平面設計純藝術插畫設計
    • 申請截止日期:早申:12月15日 常規:2月1日
    • 語言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申請難度: 困難
    + 院校對比
    麻省藝術與設計學院 Massachusetts College of Art and Design
    • 優勢專業: 服裝設計紡織品設計珠寶設計
    • 申請截止日期:早申:12月1日 常規:2月1日
    • 語言要求:托福: 85 雅思: 本6.0 研6.5; 申請難度: 困難
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    羅徹斯特理工學院 Rochester Institute of Technology
    • 優勢專業: 工業設計多媒體設計攝影
    • 申請截止日期:ED: 11.1, RD: 1.15
    • 語言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申請難度: 一般
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